随着现代科学技术的进步,工农业生产和国防医学业事业的发展,氢的应用范围,日益扩大,用量亦在迅速增加。
在一些电子材料的生长与衬底的制备、氧化工艺、外延工艺中以及化学气相淀积(CVD)技术中,均要采用氢气作为反应气、还原气或保护气。半导体集成电路生产对气体纯度要求*,比如氧杂质的允许浓度为10-12等。微量杂质的“掺入”,将会改变半导体的表面特性,甚至使产品成品率降低或造成废品。
在制造非晶体硅太阳能电池中,也需要用到纯度很高的氢气。非晶硅薄膜半导体是上近十年来研制成功的新材料,在太阳能转换和信息技术等方面已展示出了诱人的应用前景。
光导纤维的应用和开发已经规模使用,石英玻璃纤维是光导纤维的主要类型,在光纤预制棒制造过程中,需要采用氢氧焰加热,经数十次沉积,对氢气纯度和洁净度都有一定要求。